現(xiàn)如今產(chǎn)品鍍膜已經(jīng)成為了潮流，給產(chǎn)品鍍膜的方法也是眾多，如：化學(xué)浸鍍、電鍍、噴涂導(dǎo)電涂料、真空蒸鍍、陰極濺鍍、離子鍍、燙金、熔化噴涂等，其中PVD真空電鍍是我今天要說的重點(diǎn)了。

PVD真空電鍍：是在高度真空條件下加熱金屬熔化蒸發(fā)，冷卻后在被鍍產(chǎn)品表面形成金屬膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法：使用電阻產(chǎn)生的熱能和電子束。在蒸發(fā)產(chǎn)品時(shí)，必須調(diào)整蒸發(fā)時(shí)間，以確保金屬冷卻過程中釋放的熱量不會(huì)使產(chǎn)品本身變形。此外，熔點(diǎn)和沸點(diǎn)過高的金屬或合金不適合蒸發(fā)鍍。在真空室鍍金屬制品，采用一定的方法加熱鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，冷產(chǎn)品表面的金屬蒸汽凝結(jié)成金屬薄膜。在真空條件下，可以減少蒸發(fā)材料的原子和分子在飛向產(chǎn)品的過程中與其他分子產(chǎn)生碰撞，減少氣體中活性分子與蒸發(fā)源材料之間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化），從而提供薄膜的密度、純度、沉積速率和附著力。

PVD真空電鍍硬性要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源、被鍍產(chǎn)品和薄膜質(zhì)量要求較高的場合，壓力較低(10-5Pa)。涂層厚度一般在0.04-0.1um,若低于0.04um則太薄，反射率低；高于0.1um則太厚，附著力差，容易脫落。

以上就是PVD真空電鍍，如想了解工藝中更多的細(xì)節(jié)及注意事項(xiàng)，歡迎致電18018743855