在手表PVD真空鍍膜廠工作最經常聽到的一個詞很有可能便是“磁控濺射”了，那什么是“磁控濺射”呢？今日就由我簡易的解釋一下“濺射”的含意吧！說白了“濺射”便是用荷能粒子(一般用氣體共價鍵)撞擊物件，進而造成物件表層原子從母體中逸出的狀況。

早在1842年 Grove在試驗室中就發(fā)覺了這類狀況。運用濺射的基本原理制取薄膜是美國貝爾實驗室及西屋電氣公司在1877年最先運用的。在1940年之后，因為濺射膜層的特性愈來愈表明其優(yōu)勢，改進濺射裝置，提升濺射速度的各種各樣工藝相對應地獲得迅速發(fā)展趨勢，使濺射工藝在一些行業(yè)中做到了產品化水平。1966年美國國際商業(yè)計算機企業(yè)運用高頻率濺射技術性做成了絕緣層膜。1970年磁控濺射技術性以及裝置問世，它以其“高速”，“超低溫兩大特性使薄膜工藝發(fā)生了深入轉變，不僅達到薄膜工藝愈來愈繁雜的規(guī)定，并且推動了新工藝的發(fā)展趨勢。

在我國在1980年前后，很多企業(yè)競先研發(fā)磁控濺射技術性?，F階段在磁控濺射裝置和相對應的薄膜工藝科學研究上也已發(fā)現了生產性生產制造的局勢。同樣，應時代需求森豐手表PVD真空鍍膜廠也研發(fā)了一套自己獨特的磁控濺射技術，想更深入了解相關知識歡迎致電18018743855