磁控濺射技術(shù) 沉積的膜層均勻、致密、針孔少，純度高，附著力強(qiáng)，可以在低溫、低損傷的條件下實(shí)現(xiàn)高速沉積各種材料薄膜，已經(jīng)成為當(dāng)今真空鍍膜中的一種成熟技術(shù)與工業(yè)化的生產(chǎn)方式。磁控濺射技術(shù)就是利用電磁場(chǎng)來控制真空腔體內(nèi)氣體“異常輝光放電”中離子、電子的運(yùn)動(dòng)軌跡及分布狀況的濺射鍍膜的工藝過程。

鍍金屬膜時(shí)，一般用氬氣作為工作氣體，它是惰性氣體，在真空狀態(tài)下加熱基片時(shí)不會(huì)發(fā)生氧化作用；

氧氣一般用于鍍非金屬膜，如TiO2，不必?fù)?dān)心鍍好膜后發(fā)生膜氧化現(xiàn)象；

氮?dú)馐窃趽Q靶鍍膜時(shí)往真空室沖入的氣體，讓真空室內(nèi)壓強(qiáng)和大氣壓強(qiáng)保持相等，才能開蓋換靶鍍另一層膜。

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