PVD鍍膜整個過程分為三個步驟：1、膜材的蒸發(fā)過程，需要確立條件：膜材料的蒸發(fā)溫度，膜材蒸發(fā)的最佳蒸汽壓：膜材料的蒸發(fā)速率。2、膜材料所蒸發(fā)逸出粒子的遷移，所需確立條件：在鍍膜過程中，要保持真空室內(nèi)的真空度一直高于10-2Pa，真空度應(yīng)該是一個適宜的固定值，并不是越高越好。3、逸出的粒子到達基片表面成膜的過程，所需確立條件：適當(dāng)提高蒸發(fā)速率有利于形成純凈的膜。

2、在氣體中，熱傳導(dǎo)和壓強成正比，熱電偶真空計將這一原理運用到測量中來，真空計內(nèi)有部分氣體，加熱的電阻絲在真空計中對氣體進行加熱，電阻絲會產(chǎn)生熱量并且將熱量輻射給真空計內(nèi)的氣體，氣體的壓越強高接受電阻絲的輻射熱也就越多。

3、氣體經(jīng)過電離時被電離成帶電的氣體離子，能產(chǎn)生大量的離子流，離子流的定向移動會產(chǎn)生電流，通過建立電流與真空度的關(guān)系后，再對真空計中電流進行測量就能間接得到真空度，電離真空計性能很好，所以被用于超高真空的測量。如有想了解深圳PVD鍍膜，歡迎致電：18018743855  0755-27865425